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                    全國熱線: 18762687182
                    熱門關鍵詞:a-氧化鋁拋光 金相氧化鋁拋光粉 煅燒a氧化鋁 懸浮劑 平板狀氧化鋁微粉
                    • A 這兩個概念主要出現在半導體加工過程中,*初的半導體基片(襯底片)拋光沿用機械拋光、例如氧化鎂、氧化鋯拋光等,但是得到的晶片表面損傷是及其嚴重的。直到60年代末,一種新的拋光技術——化學機械拋光技術(CMP Chemical Mechanical Polishing )取代了舊的方法。CMP技術綜合了化學和機械拋光的優勢:單純的化學拋光,拋光速率較快,表面光潔度高,損傷低,**性好,但表面平整度和平行度差,拋光后表面一致性差;單純的機械拋光表面一致性好,表面平整度高,但表面光潔度差,損傷層深?;瘜W機械拋光可以獲得較為**的表面,又可以得到較高的拋光速率,得到的平整度比其他方法高兩個數量級,是目前能夠實現全局平面化的**有效方法。制作步驟依據機械加工原理、半導體材料工程學、物力化學多相反應多相催化理論、表面工程學、半導體化學基礎理論等,對硅單晶片化學機械拋光(CMP)機理、動力學控制過程和影響因素研究標明,化學機械拋光是一個復雜的多相反應,它存在著兩個動力學過程:(1)拋光首先使吸附在拋光布上的拋光液中的氧化劑、催化劑等與襯底片表面的硅原子在表面進行氧化還原的動力學過程。這是化學反應的主體。(2)拋光表面反應物脫離硅單晶表面,即解吸過程使未反應的硅單晶重新裸露出來的動力學過程。它是控制拋光速率的另一個重要過程。硅片的化學機械拋光過程是以化學反應為主的機械拋光過程,要獲得質量好的拋光片,必須使拋光過程中的化學腐蝕作用與機械磨削作用達到一種平衡。如果化學腐蝕作用大于機械拋光作用,則拋光片表面產生腐蝕坑、桔皮狀波紋。如果機械磨削作用大于化學腐蝕作用,則表面產生高損傷層。

                    • A 品名:r氧化鋁拋光粉, Alumina polishing powde.氧化鋁拋光粉采用高純氧化鋁作為原料, 在嚴格粒度分布控制下, *小粒度能夠達到0.3um。晶體呈平板狀、 粒度分布范圍窄、不易產生劃痕、磨削力強。用途:1) 單晶硅片的研磨、拋光。2) 水晶鏡片的研磨拋光。3) 手機外殼等鋁合金材料及不銹鋼材料的拋光。4) 不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光。5) 等離子噴涂6)光學玻璃, 激光晶體, 光學晶體, 光學塑料, 半導體, 金屬合金, 陶瓷, 等。7) 塑膠拋光8)大理石拋光、石材拋光9)汽車漆面拋光10)石英晶體研磨拋光,晶振研磨拋光

                    • A 無錫中晶平板狀氧化鋁拋光粉和拋光液使用說明書無錫中晶材料科技有限公司,氧化鋁拋光液是以微米或納米級氧化鋁為磨料,再配以濕潤劑、表面活性劑、分散穩定劑和調整劑生產的一種研磨拋光材料。適用于各種精密產品及金相切片、手機殼等研磨拋光。公司開發和經營的研磨拋光材料系列均為優選的磨料,先進的制備工藝保證了高質量的顆粒呈等積形狀;嚴格的分級工藝保證了實際尺寸與名義尺寸相一致的高比例顆粒,其粒度組成都高于國家標準的粒度范圍要求。所有這些研磨拋光材料,粒度、品種齊全,以滿足用戶各種要求。通過工藝、設備、流程控制,保證了高純納米氧化鋁拋光液具有以下優越性能:1、晶相穩定、硬度高、顆粒小且分布均勻,懸浮穩定性好;2、磨削力強、拋光快、光度亮、鏡面效果好;3、研磨效率高,拋光效果好,研磨效率遠遠高于二氧化硅等軟質磨料,表面光潔度優于白剛玉的拋光效果,切削力強、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。4、適用范圍廣,拋光后容易清洗。    氧化鋁拋光液和研磨材料適用于金相、巖相、復合材料的高精度研磨及拋光等表面處理:1、手機殼,陶瓷,玻璃、水晶、光學玻璃等振動拋光(機器拋光、滾動拋光)、手動拋光(研磨拋光)等。人造寶石、天然寶石、鋯石、玉石、翡翠、瑪瑙。2、單晶硅片等半導體、壓電晶學、光學晶體、光學玻璃、光學塑料、計算機硬盤、光學鏡頭、單芯光纖連接器、微晶玻璃基板、3、鋁材、銅材、不銹鋼等金屬表面研磨拋光。4、汽車油漆打磨拋光,樹脂拋光等,油漆表面、亞克力、非鐵金屬的表面拋光。5、 劃痕去除:寶石、首飾、微晶玻璃、鋁板、鋼板、塑料殼、壓克力等劃傷劃痕;汽車,船舶等表面油漆出現的輕微劃痕等只要涂上少許拋光液,用海綿布或者拋光墊等在其表面來回拋磨,很快就光亮如新,無一點擦痕。推薦配套使用:本公司金相拋光潤滑冷卻液,樣品的拋光效果則更加**。使用與用量:推薦用量為1~20%,使用者應根據不同體系經過試驗決定*佳添加量?!?以防少許沉淀,建議使用前先搖勻?!?使用時,以不同濃度并據不同行業的需要可用過濾清潔水加以稀釋,調制不同濃度。儲   存:本品需在0℃以上儲存,防止結塊,在0℃以下因產生不可再分散結塊而失效。包   裝:產品包裝有:200毫升/瓶和500毫升/瓶。1 L/瓶、5 L/桶、20 L/桶

                    • A顆粒度均勻一致,在允許的范圍之內。純度高,不含有可能引起劃痕的雜質。有良好的分散性,以保證加工過程的穩定和**?;瘜W穩定性好,不致腐蝕工件。粉體晶型機構穩定,耐磨性及流動性好。粒度大的拋光粉,磨削力越大,越適合加工硬度高的材料,反之粒度小的拋光粉適合加工偏軟類的材料。所以拋光粉都有一個粒度分布范圍,平均粒徑(中心粒徑D50)的大小只決定拋光速度的快慢,而**粒徑Dmax決定拋光精度的高低。因此要達到高精度的表面拋光要求,必須控制拋光粉的粒度分布比例和范圍。

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                    藍寶石用氧化鋁拋光粉 Alumina polishing powde

                    藍寶石用氧化鋁拋光粉 Alumina polishing powde

                    品名:r氧化鋁拋光粉, Alumina polishing powde.氧化鋁拋光粉采用高純氧化鋁作為原料, 在嚴格粒度分布控制下, *小粒度能夠達到0.3um。晶體呈平板狀、 粒度分布范圍窄、不易產生劃痕、磨削力強。用途:1) 單晶硅片的研磨、拋光。2) 水晶鏡片的研磨拋光。3) 手機外殼等鋁合金材料及不銹鋼材料的拋光。4) 不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光。5) 等離子噴涂6)光學玻璃, 激光晶體, 光學晶體, 光學塑料, 半導體, 金屬合金, 陶瓷, 等。7) 塑膠拋光8)大理石拋光、石材拋光9)汽車漆面拋光10)石英晶體研磨拋光,晶振研磨拋光

                    *新資訊
                    無錫中晶材料科技有限公司是國內真正的、唯一的、一家專業從事"平板氧化鋁研磨拋光粉”(TWA系列產品)的研發、生產、銷售一體化的科技型企業,,按水力分級工藝流程嚴格的分級而制成。硬度僅次于金剛石,是非常優異的精密研磨拋光、研磨微粉,引進德國安邁公司的氧化鋁原材料! 產品主要用于研磨、拋光半導體硅單晶片、化合物半導體材料,光學玻璃,手機鏡面, 蘋果手機玻璃拋光粉,手表、眼鏡鏡面,顯像管玻殼、高檔液晶顯示器玻璃、壓電晶體,水晶、石英晶體, 石英玻璃、硬質玻璃,精密陶瓷、鋁合金鋁鎂合金等特殊金屬表處理。
                    300px30px1100px'4px4px
                    平板a氧化鋁研磨微粉
                    片狀氧化鋁拋光粉采用高純氧化鋁作為原料, 在嚴格粒度分布控制下, *小粒度能夠達到0.3um。晶體呈四邊菱形狀、 粒度分布范圍窄、不易產生劃痕、磨削力強。用途:1) 單晶硅片的研磨、拋光。2) 水晶鏡片的研磨拋光。3) 手機外殼等鋁合金材料及不銹鋼材料的拋光。4) 不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光。5) 等離子噴涂6)光學玻璃, 激光晶體, 光學晶體, 光學塑料, 半導體, 金屬合金, 陶瓷, 等。氧化鋁拋光粉規格:顏色:白色純度:≥ 96%菱形氧化鋁研磨微粉(AL2O3)性能指  平均粒度(D50值)(由Coulter Counter測試)          產品粒度分布 微米(μm)規格型號  平均粒度(D50值)(由Coulter Counter測試)粒度目數(#)TWA-3      3.1       4000#TWA-5      4.7       3000#TWA-  7    7.0       2000#TWA- 10     9.0       4000#      注明(產品粒度以客戶使用要求標準為準)      粒度分布表以TWA10為例)標準粒徑實測數值(um)規格(um)**粒徑(dv-0值)16.9<23累積高度3%點的粒徑(dv-3值)16.0     <19累積高度3%點的粒徑(dv-3值)8.5       7.8-9累積高度94%點的粒徑(dv-94值)4.44    ≥4化學成分化學成份分析值(%)規格值(%)AL2O399.3899.3SiNa2O20.0270.05Na2O0.350.55Fe2O30.030.10物理指標:化學名稱外觀比重莫氏硬度A-AL2O3白色3.95-3.98g/cm39.0包裝外貌:包裝材料內襯雙層塑料袋,紙箱外包裝包裝重量20KG/箱
                    氧化鋁研磨微粉( 精拋)
                              中晶微米級氧化鋁拋光粉(精拋)納米的拋光粉是做金相拋光的**材料,同時還適合不銹鋼鏡面拋光,鈦金屬拋光,鑄鐵拋光,鋁材鏡面拋光,大理石石材鏡面拋光,油漆拋光,樹脂拋光,PCB電路板拋光,玻璃拋光,光學玻璃,眼鏡鏡片拋光,樹脂鏡片拋光,藍寶石拋光,LED拋光,鍺拋光,鋅拋光,拋光快,光亮度好,無劃傷。 氧化鋁拋光粉用于藍寶石拋光比氧化硅的拋光速率快3倍左右,每小時能拋7-10um。 概要與特點:無錫中晶材料科技有限公司為迎合市場需求,采用獨特的生產工藝,利用國內外先進的生產設備,通過嚴謹的生產流程制作而成的納米氧化鋁拋光粉為高純度白色粉末,是玻璃、水鉆、水晶、金屬、各種石材系列精拋納米材料。該產品具有以下優越性能:1、晶相穩定、硬度高、顆粒小且分布均勻;2、磨削力強、拋光快、光度亮、鏡面效果好;3、研磨效率高,拋光效果好,研磨效率遠遠高于二氧化硅等軟質磨料,表面光潔度優于白剛玉的拋光效果,切削力強、出光快、能拋出均勻而明亮的興澤。規格:項目指標型 號TWA 0.5TWA 1TWA 1.5外   觀白色粉末白色粉末白色粉末晶 型a相α相α相含 量﹪≥99.9%99.9%99.9%中位粒徑 D500.5um1um1.5um用途1、人造寶石、鋯石、玻璃、天然寶石、玉石、翡翠、瑪瑙、等振動拋光(機器拋光、滾動拋光)、手動拋光(研磨拋光)等。2、鋁材、銅材、不銹鋼、石材、玻璃、墻地磚等研磨拋光。3、金屬表面拋光。4、拋光條、拋光漿、油漆表面、亞克力、不銹鋼鏡面、非鐵金屬、玉石,大理石、花岡巖、水晶、光學玻璃的表面拋光。5、汽車油漆打磨拋光,手機外殼油漆拋光等。用量推薦用量為1~20%,使用者應根據不同體系經過試驗決定*佳添加量。包裝20公斤/每箱(內襯PE塑料袋)注意1.請不要浸水。2.請不要用濕手觸摸。3.請佩戴防塵護罩、安全眼鏡、防護手套。4.請不要漏出,漏出時請即時清掃干凈。                    
                    金相氧化鋁拋光粉
                    中晶材料公司開發和經營的研磨拋光材料系列均為優選的磨料,先進的制備工藝保證了高質量的顆粒呈等積形狀;嚴格的分級工藝保證了實際尺寸與名義尺寸相一致的高比例顆粒 ,其粒度組成都高于國家標準的粒度范圍要求。所有這些研磨拋光材料,粒度、品種齊全,以滿足用戶各種要求。這些研磨材料適用于金相和巖相研磨、拋光外,還適用于各種黑色和有色金屬、陶瓷、復合材料以及寶石、儀表、光學玻璃等產品的高光潔度表面的研磨及拋光。極細的磨料能夠得到需要的超精拋光平面。氧化鋁拋光粉具有硬度高、磨削力強、適用范圍廣等優點。莫氏硬度可達1800-2000kg/mm2。顆粒圓滑,不易產生劃痕,粒度分布范圍窄,研磨后材料表面質量好。粒度:1、1.5、2.5、3.5、5、7、10、14、20、28、40um包裝:粒度1um-40um之間每瓶重500克      跟據客戶要求可以另行包裝成1KG瓶裝、4KG桶裝,10KG箱裝,20KG桶裝【用途】該產品可應用于以下領域:★  電子行業:電子行業單晶矽片的研磨以及PCB金相切片的研磨;★  裝飾行業:不銹鋼食具及其它裝飾材料的拋光;★  噴涂材料:等離子噴涂;★  光學玻璃冷加工?!臼褂梅椒ā考铀渲贸?0-90g/L的懸浮液后使用。
                    拋光蠟專用研磨微粉
                    產品描述不銹鋼鍋子、鐵質鍋子。用砂布蘸白色拋光蠟,去刷鍋子。切削力大,砂布損耗小。提**率產品品質提高液體拋光臘(拋光漿)說明書產品說明:配合拋光輪使用,能提供優良的光澤度,具有鏡面研磨效果。使用液體拋光臘(拋光漿)的好處增加25%的生產量,節約勞動力。機械化代替傳統的手工作業。操作人員不在需要中斷拋光工作,可以自動控制液體拋光臘的噴涂,可以節約25%的操作時間,提高產能。節省35%的清洗時間,液體拋光臘是水性的配方,拋光之后,產品容易清洗,可以節約35%的清洗時間,減少污染和能源消耗。拋光輪的壽命增加10-20%,避免過熱造成火災,噴涂液體研磨材料對拋光輪的表面有冷卻的作用,可以增加拋光輪的壽命,且可以避免因為過熱導致火災的危險
                    氧化鋁研磨微粉(粗拋)
                                   中晶微米級氧化鋁拋光粉(粗拋)             光學玻殼領域【產品規格】產品型號 CODE中值粒徑D50(μm)     標準國標TWA4535.0±2.0#360W50TWA3020.5±1.5#600W28TWA2014.5±1.0#800W20【特點】①  外觀呈純白色,韌性高,不易壓碎,耐磨性好。②  形狀呈六角平板狀,不容易造成劃傷,懸浮性好。③  研磨效率和傳統研磨粉相比,速率高出2-3倍,且加工后產品表面平坦度好于傳統磨料,并為后期拋光加工省去了不必要的麻煩?!具m用范圍】       適用于顯像管玻殼、光學鏡片的研磨加工。特別適合大尺寸玻殼、玻屏的研磨加工。
                    氧化鋁研磨微粉(中拋)
                              中晶微米級氧化鋁拋光粉(中拋).【產品性能】本公司生產的TWA-1、TWA-2、TWA-3、TWA-5、TWA-9、TWA-12、TWA15氧化鋁產品,采用獨特的生產工藝,利用國內外先進的生產設備,通過嚴謹的生產流程制作而成。該產品具有以下優越性能:●晶相穩定、硬度高、顆粒小且分布均勻;●磨削力強、拋光快、光度亮、鏡面效果好;●研磨效率高,拋光效果好,研磨效率遠遠高于二氧化硅等軟質磨料,表面光潔度優于白剛玉的拋光效果,切削力強、出光快                     產品粒度分布 微米(μm) 規格型號  平均粒度(D50值)粒度目數(#)晶型含量%>外觀TWA22.2±0.46000#α相99.62%白色粉末TWA33.1±0.44000#α相99.62%白色粉末TWA54.7±0.53000#α相99.62%白色粉末TWA96.4±0.62000#α相99.62%白色粉末TWA GF17.0±0.62200#α相99.62%白色粉末TWA128.4±o.61500#α相99.62%白色粉末TWA1510.5±1.5800#α相99.62%白色粉末 【適用范圍及建議】 ①人造寶石、鋯石、玻璃、天然寶石、玉石、翡翠、瑪瑙、等振動拋光(機器拋光、滾動拋光)、手動拋光(研磨拋光)等。②鋁材、銅材、不銹鋼、石材、玻璃、墻地磚等研磨拋光。③金屬表面拋光。④拋光條、拋光漿、油漆表面、亞克力、不銹鋼鏡面、非鐵金屬、玉石,大理石、花岡巖、水晶等!
                    鋁合金氧化鋁拋光液
                    品介紹規格參數【產品型號} ZJ-300   系列氧化鋁拋光液【應用領域】不銹鋼、鋁合金等金屬材料的拋光?!井a品特色】顆粒分散性好,有效避免了拋光過程中由于顆粒團聚導致的工件表面劃傷;顆粒粒徑分布適中,**程度提升拋光速度的同時降低微劃傷的概率,可以提高拋光良率;運用拋光液中的化學新作用,提高拋光速度,改善拋光表面的質量;低VOC配方,使用過程避免粉塵產生,關注環保和人體健康安全?!臼褂谜f明】產品久置會有分層、沉淀,均屬正常物理現象,使用前請攪拌均勻;使用過程中保持持續攪拌,可保證穩定的研磨效率;根據工藝要求進行一定的稀釋,一般建議1:1至1:3?!景b】標準包裝:25 kg /桶,250 kg/桶。也可根據客戶要求進行包裝?! ′X合金氧化鋁鏡面拋光液:不 銹鋼拋光液具有效率高、效果穩定等特點;專門針對鋁合金材質鏡面拋光工序(如1000系列工業純鋁、2000系列Al-Cu,Al-Cu-Mn合金、 3000系列Al-Mn合金、4000系列Al- Si合金、5000系列Al-Si合金、6000系列Al-Si合金、7000系列Al-Mg-Si-Cu合金、8000系列型號),并根據材料型號的不 同配套有相應的不銹鋼拋光液。作業后能夠實現很高標準的平行度和**鏡面效果?! ′X合金鏡面拋光液的組分:拋光粉、水、酸、無機鹽、其他。適合鋁合金等材質工件鏡面拋光加工用?!?  一般來說,工件要實現鏡面效果,基本上都是要經過粗拋、精拋和拋光這三道工序的。如果工件本身具有一定的精度,則可以省略粗拋工序?! 〈謷仯喝コ鞯拇蟛糠钟嗔?,**所達到的效果要保持到大致的幾何形狀與粗糙度?! 【珤仯捍謷佂瓿珊蟮南乱粋€工序就是精拋,結果是能夠保持*精確的幾何形狀以及精細的裂紋深度?! 伖猓汗ぜㄟ^了粗拋、精拋工藝后,進入拋光工序;也是*終實現光學表面層實現的**一個部分,前提下前兩者必須要為**一步拋光做好準備,使得在整個拋光過程當中,盡量去除粗拋與精拋所留下的破環層,實現光學表面*理想鏡面效果?! ∮捎谶@三種工序不同,所用的研磨液也不一樣  1.粗拋選擇的耗材是:粗拋液,粗磨盤(鑄鐵盤)。這兩種耗材的成分里面,主成分的材質稍微較粗,要求硬度較高,顆粒度較大,這樣才有較好的切削力?! ?.精拋選擇的耗材是:精拋液,精磨盤(錫盤)。這兩種耗材相對要求要高一點,需要材質更為精細,顆粒非常小的原材料生產?! ?.拋光選擇的耗材是:拋光液,拋光盤(銅盤)。這個耗材要求**,對精細度有著非常嚴格的標準。一般是采用納米級顆粒度的原材料配置液體。也通常用的是微米級的金屬顆粒鍛造而成?! ∵x擇中晶,保證拋光效果    一般來說,研磨液都是以客戶工件的材質和要達到的效果來配置的。在交貨前,中晶工程師會依據客戶提供的工件試樣,除了要達到客戶拋光要求,還要實現高良率、**率、低成本原則。交貨后,提供詳細的使用方法,并有工程師上門指導,保證拋光效果。
                    阿爾法氧化鋁研磨微粉
                    產品描述阿爾法氧化鋁微粉 (white fused alumina)  TWA0.5、TWA1.5、TWA2、TWA3.5、TWA5、TWA7、TWA10、TWA14、TWA20、TWA28、TWA40、TWA63阿爾法氧化鋁微粉是以優質的鋁氧粉為原料,經電熔提煉結晶而成,具有硬度高,韌性稍低,純度高,自銳性優,磨削力強,發熱量小,效率高,耐酸堿腐蝕,耐高溫,熱穩定性好等特點。它不但是**的磨料磨具材料,還是**研磨,拋光材料等,用它加工制成的磨具,適用磨削高碳鋼,高速鋼及各種不銹鋼。它還廣泛用于精密鑄造,鋼鐵耐火,化工耐火,95電池,裝飾瓷等特種陶瓷及日常生活用瓷,以及軍工,電子等高科技行業。粒度(國標)        基本粒尺寸(um)TWA63             63-50umTWA50             50-40umTWA40             28-40umTWA28             20-28umTWA20             14-20umTWA14             10-14umTWA10             7-10umTWA7              5-7umFTWA5            3.5-5umTWA3.5         2.5-3.5umTWA2.5         1.5-2.5umTWA1.5         0.5-1.5umTWA0.5         0-0.5umAl2O3≥99.00%Fe2O3≤0.07%SiO2≤/Cao≤0.03%MgO≤0.02%K2O≤0.02%Na2O≤0.40%堆積密度1.75-1.95g/cm3顆粒密度≥3.90g/cm3 min莫氏硬度≥9顯微硬度21600-22600kg/mm3用途其磨具適用于磨削高碳鋼、高速鋼和淬火鋼等硬度較硬、抗張強度較大的材料的磨削。等。還可作為研磨拋光材料;精密鑄造、噴涂材料,化工觸媒載體,特種陶瓷、砂輪,煉鋼,**耐火材料等。它的特點是切削力較強,化學穩定性好,具有很好的絕緣性

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